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匀胶机、显影机



匀胶机(Spin Coater-200)


项目

基本参数

设备名称

Spin Coater、涂布面、匀胶机、甩胶机、旋涂仪

设备用途

匀胶

操作模式

半自动或手动模式

设备构成

由洁净高纯材料板 、海外部件、净化过滤组件、泵浦阀件、气路压力表件、废液装置等构成;

设备参数

主体采用优质PP\PVDF\PVC\SUS洁净材料及配件实行施工工艺;

◎ 根据用户环境不同设计合理的(包括台式 、嵌入式、手套箱式)方案;

 适合于4-8英寸晶圆工艺自动点胶系统或手动移液枪滴液,人机界面控制;

 工业伺服电机系统 ,满足工业化生产要求可选去边、背洗、温控循环系统底部排液;

 转速可调范围:20-10000rpm;

 加减速度可调范围:0-50000rpm/s转速精度:±1rpm ,更高精度可选最多可升级4路自动点胶功能可存贮100100步涂胶程序 ;

 外型尺寸:1500mm()*1050mm()*2100mm(H);

系统设计包括洁净新风系统、废液收集系统以及黄光环境等各项指标 ;

系统设计去离子水 、增压泵浦(可选件)、CDA或氮气压力端子或管路装置 ;

◎ 应用范围:半导体化合物 、集成电路和IC、光伏、LED 、TFT-LCD、化工、光子光量子 、石化、科研院所或其他工业用户;

 

 


Develop-200


项目

基本参数

设备名称

显影机 、Develop

设备用途

匀胶 、曝光后显影用途

操作模式

半自动或手动模式

设备构成

由洁净高纯材料板 、海外部件、净化过滤组件、泵浦阀件 、气路压力表件、废液装置等构成 ;

设备参数

主体采用优质PP\PVDF\PVC\SUS洁净材料及配件实行施工工艺 ;

◎ 根据用户环境不同设计合理的(包括台式 、嵌入式、手套箱式)方案;

 适合于4-8英寸晶圆显影工艺,人机界面控制;

 摆臂式自动多路显影喷液,去离子水,吹气功能·可根据不同工艺更换多种显影喷头;

 转速可调范围:20-10000rpm ;

 加减速度可调范围:0-50000rpm/s.转速精度:±1rpm,可存贮100100步涂胶程序 ;

 外型尺寸:1500mm()*1050mm()*2100mm(H) ;

系统设计包括洁净新风系统、废液收集系统以及黄光环境等各项指标 ;

系统设计去离子水 、增压泵浦(可选件) 、CDA或氮气压力端子或管路装置;

工业伺服电机系统 ,性能稳定,满足工业化生产要求·可选显影液控温循环系统,增强工业稳定性·底部排废,顶部抽风功能;

◎ 应用范围:半导体化合物、集成电路和IC 、光伏 、LED、TFT-LCD、化工、光子光量子、石化 、科研院所或其他工业用户;



    
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